光刻机（Lithography System）

光刻机是微电子、光电工程、材料科学及纳米技术等学科研究与教学的核心大型公共设备之一，主要服务于学院及学校相关领域的教学与科研任务。为支撑先进微纳加工与器件制备能力建设，学院于2020年引进了型号为德国SUSS MJB4。目前设备已完成安装调试，操作培训与试运行工作已全面启动。

光刻机介绍：

品牌： SUSS Micro Tec Lithography

型号： MJB4

主要功能： 通过高精度紫外光对光刻胶进行选择性曝光，结合后续显影、刻蚀等工艺，实现微米至纳米尺度图形的制备。具备高分辨率、高对准精度及三维加工能力，适用于各类微纳结构、半导体器件及生物芯片的制备。

应用范围： 硅基、玻璃、聚合物等衬底上的微纳图形加工，适用于光子器件、MEMS、半导体晶体管芯片等领域的研究与教学。

样品要求： 衬底平整、洁净，尺寸符合样品台规格（最大4英寸），表面涂覆光刻胶后需保持稳定，无剧烈挥发或污染。

设备存放地点： 激光所308室