反应离子刻蚀机（RIE）
反应离子刻蚀机作为一种干法刻蚀设备，在微纳加工领域扮演着重要角色，搭配不同类型的掩膜能够制造出多种结构。为了推动科研进步，拓展日常教学方式，学院已于2020年6月购置Tailong RIE-100反应离子刻蚀机。目前设备主体和相关配件已经安装到位，并作为大型公共设备向校内师生开放。
反应离子刻蚀机介绍：
品牌：Tailong
型号：RIE-100
主要功能：使用等离子态的气体对样品表面进行刻蚀，可进行各向异性或各向同性刻蚀，通常需要搭配掩膜进行。
应用范围：薄膜样品或平整的固体
样品要求：样品干燥、无挥发、不易从衬底脱落
设备存放地点：实验楼C307
